Le varianti Pro dei futuri iPhone 16 potrebbero garantire agli utenti una qualità fotografica ancora più elevata. Sembrerebbe, infatti, che Apple stia lavorando su un'inedita tecnologia di rivestimento ottico antiriflesso che avrebbe l'obiettivo di ridurre nelle foto effetti sgraditi come il flare ed il ghosting.
Questa tecnologia utilizzerà il processo di Deposizione di Strati Atomici (ALD) che permetterà il deposito di materiali strato per strato su un substrato: dunque, verrebbe garantito un maggiore controllo sullo spessore e sulla composizione. Il suo utilizzo potrà essere vantaggioso per i componenti dei semiconduttori, come ad esempio quelli delle lenti delle fotocamera, permettendo soprattutto l'applicazione di rivestimenti antiriflesso piuttosto sottili.
L'applicazione di rivestimenti antiriflesso tramite il processo ALD produrrebbe come risultato finale una diminuzione degli artefatti fotografici, tra cui le strisce di luce e gli aloni che si verificano soprattutto quando una fonte di luce forte - ad esempio il sole - colpisce l'obiettivo. Inoltre, come dicevamo all'inizio, Apple potrebbe limitare anche il fenomeno del ghosting, un difetto di nitidezza delle foto che si può verificare quando la luce si riflette avanti e indietro tra le superfici dell'obiettivo e del sensore della fotocamera.
Il nuovo processo ALD, oltre ad una migliore qualità fotografica, assicurerà anche una maggiore protezione contro i danni ambientali al sistema degli obiettivi della fotocamera, tuttavia senza compromettere la capacità del sensore di catturare la luce in maniera efficiente. Questa notizia, dunque, conferma l'impegno costante di Apple nel provare a migliorare l'esperienza degli utenti, in questo caso nell'ambito fotografico.